研磨材料、研磨用組成物及び研磨方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-093388
公開番号（公開出願番号）：特開2012-224745
出願日： 2011年04月19日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：

【課題】セリウムのみに依存しない新たな研磨材料を提供する。【解決手段】以下の組成物式(1)で表される酸化物を研磨材料として用いる。 Ay(Fe1-zBz)Ox (1)(ただし、Aは、Ca及びSrからなる群から選択される1種又は2種以上を示し、Bは、Co及びNiから選択される1種又は2種以上を示し、2.5≦x≦3,0.6≦y<1であり、0≦z<1である。)【選択図】図1

請求項（抜粋）：

以下の組成式(1)で表される酸化物である、研磨材料。 Ay(Fe1-zBz)Ox (1) (ただし、Aは、Ca及びSrから選択される1種又は2種以上を示し、Bは、Co及びNiから選択される1種又は2種以上を示し、2.5≦x≦3、0.6≦<y<1、0≦z<1)である。) で表される酸化物である、研磨材料。

IPC (4件)：

C09K 3/14 , H01L 21/304 , B24B 37/00 , C01G 49/00

FI (5件)：

C09K3/14 550D , H01L21/304 622D , B24B37/00 H , C01G49/00 E , C01G49/00 C

Fターム (15件)：

3C058AA07 , 3C058CA05 , 3C058CB05 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 3C058DA17 , 4G002AA10 , 4G002AB02 , 4G002AD04 , 4G002AE05 , 5F057AA28 , 5F057BA11 , 5F057DA01 , 5F057EA01 , 5F057EA06

引用特許：

審査官引用 (10件)

研磨材及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-285263 出願人：日本化学工業株式会社
窒化物結晶の表面処理方法、窒化物結晶基板、エピタキシャル層付窒化物結晶基板および半導体デバイス、ならびにエピタキシャル層付窒化物結晶基板および半導体デバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-123731 出願人：住友電気工業株式会社
ランタン系ペロブスカイト型複合酸化物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-111609 出願人：北興化学工業株式会社

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