特許
J-GLOBAL ID：201203048395857545
リソグラフィー用ペリクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
嶋崎 英一郎
, 荒井 鐘司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-256482
公開番号（公開出願番号）：特開2012-108277
出願日： 2010年11月17日
公開日（公表日）： 2012年06月07日
要約：
【課題】マスクに貼り付けても、マスクに歪みを与えることの少ないリソグラフィー用ペリクルを提供する。【解決手段】ペリクルフレームの一方の端面に接着剤層を介してペリクル膜が張設され、他方の端面にマスク貼付側の面が平坦な粘着剤層が設けられ、かつその粘着力が1N/mから100N/mの範囲にあることを特徴とし、前記粘着剤層のマスク貼付側の面の平坦度を15μm以下とし、ペリクル膜が貼付された前記接着剤層の面の平坦度を15μm以下とするのが望ましい。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ペリクルフレームの一方の端面に接着剤層を介してペリクル膜が張設され、他方の端面にマスク貼付側の面が平坦な粘着剤層が設けられ、かつその粘着力が1N/mから100N/mの範囲にあることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
2H095BA01
, 2H095BC32
, 2H095BC33
, 2H095BC39
, 3E096AA01
, 3E096BA08
, 3E096BA20
, 3E096BB03
, 3E096CA06
, 3E096CB02
, 3E096DA14
, 3E096EA02X
, 3E096EA02Y
, 3E096FA40
, 3E096GA20
