特許

J-GLOBAL ID：201203054286347235

ラクトン光酸発生剤、これを含む樹脂およびフォトレジスト

発明者： イマッド・アカッド ,  ミンキ・リー ,  チェン-バイ・スー ,  コン・リュウ
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-249145
公開番号（公開出願番号）：特開2012-111753
出願日： 2011年11月14日
公開日（公表日）： 2012年06月14日
要約：

【課題】電子デバイスの製造に有用であるラクトン含有光酸発生剤化合物(PAG)およびこのPAG化合物を含むフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】下記式(2)の光酸発生剤化合物:式中、各Rは同じかもしくは異なっていて、水素もしくは非水素置換基であり;Yは連結基であり;各Rfは独立して水素、フッ素およびフルオロ(C1-C10)アルキルから選択され;Mはカチオンであり;nは0〜6の整数であり;並びに、mは1〜10の整数である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式の光酸発生剤化合物:

IPC (5件)：

C07D 313/10 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C07D313/10 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R

Fターム (24件)：

2H125AF17P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM23P ,  2H125AN10P ,  2H125AN11P ,  2H125AN39P ,  2H125AN51P ,  2H125AN57P ,  2H125AN88P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4C062JJ15

引用特許：

審査官引用 (7件)

• レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-061514   出願人：東京応化工業株式会社
• レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-244298   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-201284   出願人：富士フイルム株式会社
• 重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-236884   出願人：信越化学工業株式会社
• 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-243560   出願人：信越化学工業株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-093734   出願人：住友化学株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-201692   出願人：住友化学株式会社