特許
J-GLOBAL ID：201203060142921280
はんだ上での酸化物の生成を抑制する方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
伊東 忠彦
, 大貫 進介
, 伊東 忠重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-238431
公開番号（公開出願番号）：特開2012-104817
出願日： 2011年10月31日
公開日（公表日）： 2012年05月31日
要約：
【課題】はんだ表面の酸化物の生成を抑制できる手段を提供する。【解決手段】ある実施例では、システムは、堆積システム及びプラズマ/ボンディングシステムを有する。当該堆積システムは、多数の基板のうちの1つの基板表面にはんだを堆積する。当該プラズマ/ボンディングシステムは、前記基板をプラズマ洗浄するプラズマシステム、及び、前記基板のボンディングを行うボンディングシステムを有する。当該プラズマ/ボンディングシステムは、前記はんだの再酸化を少なくとも緩和する。ある実施例では、基板表面にはんだを堆積する工程、前記基板から金属酸化物を除去する工程、及び、前記基板の表目にキャップ層を堆積することで、前記はんだの再酸化を少なくとも緩和する工程を有する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
複数の基板のうち少なくとも1つの基板の表面にはんだを堆積する堆積システム;及び、
プラズマ/ボンディングシステム;
を有するシステムであって、
前記プラズマ/ボンディングシステムは:
前記少なくとも1つの基板をプラズマ洗浄するプラズマシステム;及び、
前記複数の基板をボンディングするボンディングシステム;
を有し、
前記ボンディングシステムは、前記はんだの再酸化を少なくとも抑制する、
システム。
IPC (3件)：
H01L 21/60
, B23K 1/00
, B23K 1/20
H01L21/60 311Q
, B23K1/00 330E
, B23K1/20 H
審査官引用 (12件)
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実装方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-237487
出願人：東レエンジニアリング株式会社
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特開昭63-293952
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実装方法および実装装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-125814
出願人：東レエンジニアリング株式会社
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