特許
J-GLOBAL ID：201203070378650070

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物

発明者：
松沢 賢介

松沢 賢介 について

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岩下 淳

岩下 淳 について

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小室 嘉崇

小室 嘉崇 について

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新井 雅俊

新井 雅俊 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-037534
公開番号（公開出願番号）：特開2012-173642
出願日： 2011年02月23日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：
【課題】EUV用またはEB用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。【解決手段】下記一般式(a0-0-1)で表される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含有する樹脂成分(A)を含有し、露光により発生した酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するEUV用またはEB用レジスト組成物。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分(A)を含有するEUV用またはEB用レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、下記一般式(a0-0-1)で表される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするEUV用またはEB用レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/38
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/38
Fターム (64件)：
2H125AF13P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ09X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL02 ,  2H125AL03 ,  2H125AL07 ,  2H125AL11 ,  2H125AL22 ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02S ,  4J100BA03S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA34P ,  4J100BA56P ,  4J100BB12P ,  4J100BC09S ,  4J100BC53Q ,  4J100BC84R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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