特許
J-GLOBAL ID：200903036887046832
新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-257492
公開番号（公開出願番号）：特開2009-040761
出願日： 2007年10月01日
公開日（公表日）： 2009年02月26日
要約：
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物およびその製造方法、該化合物の前駆体として有用な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記一般式(b1-1)で表される化合物。Aは、当該Aが結合した硫黄原子とともに3〜7員環構造の環を形成する2価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。R2は置換基を有していてもよい芳香族基、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または置換基を有していてもよい炭素数2〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基であり、nは0または1であり、Y1はフッ素置換されていてもよい炭素数1〜4のアルキレン基である。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(b1-1)で表される化合物。
IPC (5件)：
C07D 333/46
, C07C 381/12
, C07D 335/02
, G03F 7/004
, G03F 7/039
C07D333/46
, C07C381/12
, C07D335/02
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, G03F7/004 501
2H025AA01
, 2H025AA04
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4C023JA05
, 4H006AA01
, 4H006AB80
, 4H006TN40
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (16件)
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引用文献：
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