欠陥検査方法および欠陥検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：井上学 , 戸田裕二 , 渡邊孝弘 , 岩崎重美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-289127
公開番号（公開出願番号）：特開2012-137350
出願日： 2010年12月27日
公開日（公表日）： 2012年07月19日
要約：

【課題】従来技術によれば,試料に熱ダメージを与えることなく,短時間で高感度に欠陥検出・寸法算出することが困難であった。【解決手段】被検査対象物である試料の表面の領域を所定の照明条件にて照明する照明工程と、該試料を並進および回転させる試料走査工程と、該試料の照明領域から複数の方向に散乱する複数の散乱光のそれぞれを、前記試料走査工程における走査方向および該走査方向と概略直交する方向の各々について複数画素に分割して検出する散乱光検出工程と、前記散乱光検出工程において検出された複数の散乱光のそれぞれについて、該試料の概略同一領域から概略同一方向に散乱した散乱光を加算処理し、該加算処理した散乱光に基づき欠陥の有無を判定し、該判定された欠陥に対応する複数の散乱光のうち少なくとも一の散乱光を用いて該判定された欠陥の寸法を算出する処理工程と、を備える欠陥検査方法である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被検査対象物である試料の表面の領域を所定の照明条件にて照明する照明工程と、該試料を並進および回転させる試料走査工程と、該試料の照明領域から複数の方向に散乱する複数の散乱光のそれぞれを、前記試料走査工程における走査方向および該走査方向と概略直交する方向の各々について複数画素に分割して検出する散乱光検出工程と、前記散乱光検出工程において検出された複数の散乱光のそれぞれについて、該試料の概略同一領域から概略同一方向に散乱した散乱光を加算処理し、該加算処理した散乱光に基づき欠陥の有無を判定し、該判定された欠陥に対応する複数の散乱光のうち少なくとも一の散乱光を用いて該判定された欠陥の寸法を算出する処理工程と、を備える欠陥検査方法。

IPC (5件)：

G01N 21/956 , H01L 21/66 , G01B 11/30 , G01B 11/02 , G06T 1/00

FI (5件)：

G01N21/956 A , H01L21/66 J , G01B11/30 A , G01B11/02 H , G06T1/00 305A

Fターム (63件)：

2F065AA03 , 2F065AA11 , 2F065AA21 , 2F065AA49 , 2F065CC17 , 2F065DD04 , 2F065DD06 , 2F065DD12 , 2F065EE00 , 2F065FF04 , 2F065FF44 , 2F065FF49 , 2F065HH12 , 2F065JJ08 , 2F065JJ26 , 2F065LL21 , 2F065LL31 , 2F065LL42 , 2F065MM03 , 2F065MM04 , 2F065MM11 , 2F065NN01 , 2F065NN05 , 2F065QQ03 , 2F065QQ14 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ27 , 2F065QQ33 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA10 , 2G051BB01 , 2G051BB07 , 2G051BB11 , 2G051CA03 , 2G051CA06 , 2G051CB05 , 2G051CC07 , 2G051CD07 , 2G051DA06 , 2G051DA08 , 2G051FA01 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106CA38 , 4M106DB08 , 4M106DB21 , 4M106DJ15 , 4M106DJ20 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057BA12 , 5B057BA19 , 5B057CA08 , 5B057CA11 , 5B057CA16 , 5B057CC02 , 5B057DA03 , 5B057DB01 , 5B057DB09 , 5B057DC22 , 5B057DC36

引用特許：

審査官引用 (8件)

欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-158331 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-045857 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-085167 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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