表面検査方法および表面検査装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西脇民雄 , 西村公芳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-188102
公開番号（公開出願番号）：特開2005-024327
出願日： 2003年06月30日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】表面検査装置において、散乱光を複数のチャンネルに分解して検出する場合に、光束が入射した被検面における光強度分布の不均一に依存した検出光強度の不均一性を低減し、または解消させる。【解決手段】各チャンネルchごとに検出された分解散乱光強度を、照射野220における各領域間での受光強度分布の不均一に依存しないように、照射野220の各領域からの散乱光の強度を空間的に分解して検出する光強度検出手段50の各分解チャンネルchに対応した各アンプ52の増幅率を調整して、分解散乱光強度を規格化する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

所定の光束を表面検査の対象である被検体の被検面に対して所定の入射角で入射させつつ、前記光束が前記被検面を走査するように、前記光束および前記被検体のうち少なくとも一方を相対的に変位させ、前記光束が入射した前記被検面の部分から出射した散乱光の光強度を、前記光束が入射した被検面の部分における所定の方向に対応した一次元方向について複数のチャンネルに空間的に分解し、分解して得られた各分解散乱光の光強度を各別に検出することにより、被検面の検査を行う表面検査方法であって、前記光束が入射した被検面の部分における少なくとも前記所定の方向についての光の光強度分布の均一性を高めることを特徴とする表面検査方法。

IPC (2件)：

G01N21/956 , H01L21/66

FI (2件)：

G01N21/956 A , H01L21/66 J

Fターム (18件)：

2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB07 , 2G051BA10 , 2G051BC07 , 2G051CA02 , 2G051CA07 , 2G051CB05 , 2G051CD05 , 2G051DA08 , 2G051EA23 , 2G051EC03 , 4M106AA01 , 4M106BA04 , 4M106CA41 , 4M106DB02 , 4M106DB08 , 4M106DJ19

引用特許：

審査官引用 (12件)

磁気ディスクの磁気膜欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-132861 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
異物検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-154572 出願人：株式会社日立製作所
特開昭64-075943

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