特許
J-GLOBAL ID：201003014888847852

欠陥検査方法及び欠陥検査装置

発明者：
中尾 敏之

中尾 敏之 について

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丸山 重信

丸山 重信 について

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浜松 玲

浜松 玲 について

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浦野 雄太

浦野 雄太 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-045857
公開番号（公開出願番号）：特開2010-197352
出願日： 2009年02月27日
公開日（公表日）： 2010年09月09日
要約：
【課題】試料へのダメージを抑えつつ、偏光検出を利用した欠陥検出感度向上とHaze計測を両立させる欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供する。【解決手段】試料に対し、エネルギの吸収が小さい波長帯域を有するレーザビームを発振する光源と、前記光源から発振されたレーザビーム照射により、欠陥から発生する欠陥散乱光を検出する欠陥検出光学系と、ウエハ表面荒れから発生するラフネス散乱光を検出するHaze検出光学系の二つを独立に備え、前記二つの検出光学系で検出した散乱光に対し独立に偏光検出を行い、前記二つの異なる検出信号に基づき欠陥判定および、Haze計測を行うことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ウエハ表面の欠陥を含む表面状態を検査する欠陥検査方法であって、 前記ウエハ表面に照射するレーザビームを所望の偏光状態に変換する工程と、 変換された前記レーザビームを前記ウエハ表面に照射する工程と、 該レーザビームが照射された前記ウエハ上の被照射領域内から発生する散乱光を、前記ウエハ上の欠陥から発生する第1の散乱光と前記ウエハの表面荒れから発生する第2の散乱光とに分離する工程とを有し、 前記散乱光の分離は、光路分割光学素子を用いて前記第1および第2の散乱光を概略同時のタイミングで行い、各散乱光の検出が前記第1および第2の散乱光の光学属性に基づいて行われることを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01N21/956 A ,  H01L21/66 J
Fターム (30件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AB10 ,  2G051AB20 ,  2G051BA05 ,  2G051BA06 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB01 ,  2G051CA01 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA06 ,  2G051DA08 ,  2G051EA02 ,  2G051EA20 ,  2G051EC04 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA38 ,  4M106DB02 ,  4M106DB08 ,  4M106DB14 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ21
引用特許：
審査官引用 (6件)
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