特許
J-GLOBAL ID：200903042811510106
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 学
, 戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-085167
公開番号（公開出願番号）：特開2009-236791
出願日： 2008年03月28日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：
【課題】微小欠陥を試料にダメージを与えることなく高速に検査すること。さらに大欠陥についても、散乱光量を精度良く検出し、欠陥寸法および欠陥座標を高精度に算出すること。【解決手段】互いに異なる複数の照度による照明、あるいは互いに異なる複数の感度の画素による検出により、互いに実効感度の異なる複数の信号を得、それらを選択利用することで、高感度、広ダイナミックレンジ検査を実現する。さらに上記複数の信号を同時並列に出力し、処理することにより、高速検査を実現する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料表面を検査する欠陥検査装置であって、
前記試料を保持するステージと、
前記試料表面での照明領域が線状となるようにレーザビームを照射する照明光学系と、
前記試料表面における線状照明領域から散乱された光を検出する複数の画素を備えた検出器を有し、前記検出器の複数の画素より得られた互いに実効感度の異なる複数の検出信号を並列に出力する検出光学系と、
前記複数の検出信号から飽和していない検出信号を選択し、前記選択された検出信号に基づいて欠陥を検出する信号処理系と、
を有することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BA05
, 2G051BA10
, 2G051BA11
, 2G051BB05
, 2G051CA02
, 2G051CA03
, 2G051CB05
, 2G051DA08
, 2G051EA09
, 2G051EA14
, 2G051EA24
, 2G051FA00
出願人引用 (2件)
-
ウエハ表面検査方法および検査装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-112073
出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
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欠陥検査装置および方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-337002
出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
審査官引用 (10件)
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