欠陥検査方法及びその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-158331
公開番号（公開出願番号）：特開2007-327815
出願日： 2006年06月07日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：

【課題】高スループット化を図った欠陥検査方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、回路パターン付きウェハ等の被検査物をr-θ(回転)ステージを用いて連続的に回転させながら、被検査物上の多数の領域の各々にストロボ光(パルス光)を照射し、該ストロボ光(パルス光)が照射された各領域内の2次元画像を検出し、該検出された各領域内の2次元画像と参照2次元画像と比較して欠陥検出を行う欠陥検査装置及びその方法である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

回転ステージを用いて被検査物を連続的に回転させながら移動ステージを用いて前記被検査物の半径方向に相対的に移動して走査した状態で、前記被検査物上の走査軌跡に沿った多数の領域の各々にストロボ光を照射すると共に該ストロボ光が照射された各領域内の検査2次元画像を撮像する第1の過程と、該第1の過程で撮像された各領域内の検査2次元画像と該各領域内の検査2次元画像に対応する参照2次元画像とを比較して欠陥検出を行う第2の過程とを有することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (1件)：

G01N 21/956

FI (1件)：

G01N21/956 A

Fターム (13件)：

2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051AC15 , 2G051AC21 , 2G051BB02 , 2G051BB05 , 2G051BB17 , 2G051BC02 , 2G051CA04 , 2G051CB08 , 2G051DA08 , 2G051ED11

引用特許：

出願人引用 (5件)

米国特許第6693663号明細書
欠陥検査装置およびその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-206078 出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
欠陥検査装置および欠陥検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-344327 出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社

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審査官引用 (11件)

自動化ウェハ欠陥検査システムおよびこのような検査を実行する方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-560537 出願人：オーガストテクノロジーコーポレイション
特開昭61-137050
パターン欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-001603 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ

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