特許

J-GLOBAL ID：201203071827976127

固体電解質薄膜の作製方法、及び固体電解質薄膜

発明者： 中尾 友子 ,  高橋 雅也 ,  辰巳砂 昌弘 ,  忠永 清治 ,  林 晃敏
出願人/特許権者： ラサ工業株式会社 ,  地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 ,  公立大学法人大阪府立大学
代理人 (1件)： 沖中 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-148415
公開番号（公開出願番号）：特開2012-014885
出願日： 2010年06月30日
公開日（公表日）： 2012年01月19日
要約：

【課題】リチウムイオン二次電池の無機固体電解質として有望なLi4SiO4-Li3PO4の薄膜形成条件を見出すとともに、当該Li4SiO4-Li3PO4からなる固体電解質薄膜を提供する。【解決手段】ノズル12を備えたチャンバ10の内部に基板Aを配置する準備工程と、前記チャンバ10を減圧する減圧工程と、前記ノズル12から前記基板Aの表面にLi4SiO4-Li3PO4を含むエアロゾルを吹き付ける吹付工程と、前記ノズル12に対して前記基板Aを相対移動させ、当該基板Aの表面全体に前記Li4SiO4-Li3PO4の薄膜を形成する膜形成工程と、を包含する固体電解質薄膜の作製方法。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ノズルを備えたチャンバの内部に基板を配置する準備工程と、 前記チャンバを減圧する減圧工程と、 前記ノズルから前記基板の表面にLi4SiO4-Li3PO4を含むエアロゾルを吹き付ける吹付工程と、 前記ノズルに対して前記基板を相対移動させ、当該基板の表面全体に前記Li4SiO4-Li3PO4の薄膜を形成する膜形成工程と、 を包含する固体電解質薄膜の作製方法。

IPC (6件)：

H01M 10/056 ,  C01B 33/32 ,  H01M 10/052 ,  H01B 13/00 ,  H01B 1/06 ,  C01B 25/30

FI (6件)：

H01M10/00 107 ,  C01B33/32 ,  H01M10/00 102 ,  H01B13/00 Z ,  H01B1/06 A ,  C01B25/30

Fターム (23件)：

4G073BA03 ,  4G073BA70 ,  4G073FD01 ,  4G073FD14 ,  4G073FD22 ,  4G073FF03 ,  4G073FF07 ,  4G073GA01 ,  4G073GA28 ,  4G073GA30 ,  4G073UA20 ,  4G073UB11 ,  4G073UB13 ,  5G301CA02 ,  5G301CA16 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5H029AJ06 ,  5H029AJ12 ,  5H029AM12 ,  5H029HJ02 ,  5H029HJ03 ,  5H029HJ15

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-105962
  
• 非水系二次電池用電極及びこれを用いたリチウム二次電池。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-309506   出願人：東芝電池株式会社
• 被膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-134651   出願人：NTN株式会社