特許

J-GLOBAL ID：201203074986301962

高分子ゲル及びその製造方法

発明者： グン 剣萍 ,  黒川 孝幸 ,  中島 祐 ,  佐藤 仁美
出願人/特許権者： 国立大学法人北海道大学
代理人 (1件)： 伊藤 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-175795
公開番号（公開出願番号）：特開2012-036262
出願日： 2010年08月04日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
要約：

【課題】 中性又は弱電解質の第一のモノマーを使用した第一の網目構造体であっても、多量の第二のモノマーを第一の網目構造中に導入できる高分子ゲルの製造方法の提供。【解決手段】 以下の工程を含む、高分子ゲルの製造方法。1)架橋構造を有する第一の網目構造体中に分子ステントを導入する工程;及び2)分子ステントを導入した第一の網目構造体内に第二のモノマーを導入して重合する工程。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

以下の工程を含む、高分子ゲルの製造方法。 1)架橋構造を有する第一の網目構造体中に分子ステントを導入する工程; 及び 2)分子ステントを導入した第一の網目構造体内に第二のモノマーを導入して重合する工程。

IPC (3件)：

C08F 2/44 ,  C08F 265/04 ,  C09K 3/00

FI (3件)：

C08F2/44 C ,  C08F265/04 ,  C09K3/00 103L

Fターム (11件)：

4J011AA05 ,  4J011BA04 ,  4J011PA69 ,  4J011QA06 ,  4J011UA01 ,  4J026AA48 ,  4J026BA08 ,  4J026BA32 ,  4J026BB03 ,  4J026FA09 ,  4J026GA06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高分子ゲルおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-157241   出願人：国立大学法人北海道大学
• 直鎖状高分子を有する低摩擦ハイドロゲルおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-013617   出願人：北海道ティー・エル・オー株式会社