拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：滝田清暉 , 中村成美 , 岩▲崎▼ 有穂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-291876
公開番号（公開出願番号）：特開2012-140646
出願日： 2010年12月28日
公開日（公表日）： 2012年07月26日
要約：

【課題】拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法を提供する。【解決手段】透明導電構造は、基板ユニット、第1のコーティングユニット、拡散ブロッキング構造、第2のコーティングユニット、第3のコーティングユニット及び導電ユニットを備える。基板ユニットは、プラスチック基板を有する。第1のコーティングユニットは、プラスチック基板上に形成された第1のコーティングを有する。拡散ブロッキング構造は、第1のコーティングに形成され、複数の第1の酸化層を有する第1の酸化ユニットと、複数の第2の酸化層を有する第2の酸化ユニットを備え、前記複数の第2の酸化層と前記複数の第1の酸化層とは交互に積層されている。第2のコーティングユニットは、拡散ブロッキング構造に形成された第2のコーティングを有する。第3のコーティングは、第2のコーティングに形成された第3のコーティングを有する。導電ユニットは、第3のコーティング上に形成された透明導電構造を有する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

複数の第1の酸化層を有し、前記複数の第1の酸化層が酸化シリコン層である第1の酸化ユニットと、複数の第2の酸化層を有し、前記複数の第2の酸化層が酸化アルミニウム層又は酸化リチウム層である第2の酸化ユニットと、を備え、前記複数の第2の酸化層と前記複数の第1の酸化層とが交互に積層されていることを特徴とする拡散ブロッキング構造。

IPC (10件)：

C23C 16/42 , G06F 3/041 , H01B 5/14 , H01B 13/00 , C01G 19/00 , C01B 33/12 , C01F 7/00 , C01G 33/00 , B32B 9/00 , C01G 23/04

FI (11件)：

C23C16/42 , G06F3/041 330A , H01B5/14 A , H01B13/00 503B , C01G19/00 A , C01B33/12 D , C01F7/00 C , C01G33/00 A , G06F3/041 350C , B32B9/00 A , C01G23/04 C

Fターム (54件)：

4F100AA17D , 4F100AA17E , 4F100AA18B , 4F100AA19B , 4F100AA20A , 4F100AA21D , 4F100AT00A , 4F100BA05 , 4F100GB41 , 4F100JG01C , 4F100JN01C , 4F100YY00C , 4G047CA02 , 4G047CB04 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G048AA02 , 4G048AB01 , 4G048AC02 , 4G048AD02 , 4G048AE05 , 4G072AA25 , 4G072AA38 , 4G072BB10 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH14 , 4G072JJ26 , 4G072RR11 , 4G072UU30 , 4G076AA02 , 4G076AA18 , 4G076AB02 , 4G076BA04 , 4G076CA10 , 4G076DA04 , 4K030BA42 , 4K030BA43 , 4K030BA44 , 4K030BB12 , 5B068AA33 , 5B068BC13 , 5B087CC13 , 5B087CC14 , 5B087CC16 , 5G307FA02 , 5G307FB02 , 5G307FC04 , 5G307FC10 , 5G323BA01 , 5G323BA02 , 5G323BB05 , 5G323BB06 , 5G323BC03

引用特許：

審査官引用 (8件)

二酸化珪素ナノラミネートの蒸着
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-580596 出願人：プレジデント・アンド・フェロウズ・オブ・ハーバード・カレッジ
光学物品およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-068695 出願人：株式会社シンクロン
電子機器筐体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-308545 出願人：ソニー株式会社, 株式会社エツミ光学

全件表示

前のページに戻る