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J-GLOBAL ID:201302241018049378   整理番号:13A1937022

p-GaN表面の誘導結合プラズマエッチング損傷についての高温等温容量過渡分光法による研究

High-Temperature Isothermal Capacitance Transient Spectroscopy Study on Inductively Coupled Plasma Etching Damage for p-GaN Surfaces
著者 (6件):
資料名:
巻: 52  号: 11,Issue 2  ページ: 11NH03.1-11NH03.4  発行年: 2013年11月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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低Mgドープp型GaNSchottkyコンタクトの電気的特性に及ぼす誘導結合プラズマ(ICP)エッチング損傷の影響を,高温等温容量過渡分光法により評価した。アクセプタ型表面状態の大きな単一ピークが主に成長直後の試料で検出された。エネルギー準位と状態密度は価電子帯の上の1.18eVにあり,それぞれGa空孔(VGa)に近く,1.5×1013cm-2であった。僅かなGa原子が表面から欠落し,少数表面層内に高いVGa密度が観察されたと推測した。800°Cにアニーリングするとピーク強度は60%程減少し,ICPエッチングにより更に減少した。この減少は,電流-電圧特性におけるメモリー効果の抑制と一致する。アニーリングおよびICPエッチングにおいて,VGaの構造が乱れるので,ピーク強度が減少した。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
不純物・欠陥の電子構造  ,  半導体の放射線による構造と物性の変化 

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