AOKI Toshichika について
Univ. Fukui, Fukui, JPN について
WAKAYAMA Hisashi について
Univ. Fukui, Fukui, JPN について
KANEDA Naoki について
Hitachi Cable, Ltd., Ibaraki, JPN について
MISHIMA Tomoyoshi について
Hitachi Cable, Ltd., Ibaraki, JPN について
NOMOTO Kazuki について
Univ. Notre Dame, IN, USA について
SHIOJIMA Kenji について
Univ. Fukui, Fukui, JPN について
Japanese Journal of Applied Physics について
窒化ガリウム について
化合物半導体 について
深準位過渡分光法 について
高温 について
プラズマエッチング について
照射損傷 について
誘導結合プラズマ について
ドーピング について
マグネシウム について
P型半導体 について
空孔欠陥 について
電流電圧特性 について
Schottky障壁 について
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等温容量過渡分光法 について
不純物・欠陥の電子構造 について
半導体の放射線による構造と物性の変化 について
GaN について
誘導結合プラズマ について
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損傷 について
等温容量過渡分光法 について
研究 について