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J-GLOBAL ID：201302261747640745   整理番号：13A0868629

リソグラフィツールのウエハ段に対する適応フィードフォワード

Adaptive Feedforward for a Wafer Stage in a Lithographic Tool

著者 (1件)： BUTLER Hans (ASML, Veldhoven, NLD)
資料名： IEEE Transactions on Control Systems Technology  (IEEE Transactions on Control Systems Technology)
巻： 21  号： 3  ページ： 875-881  発行年： 2013年05月 
JST資料番号： W0515A  ISSN： 1063-6536  CODEN： IETTE2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 集積回路(ICs)製造用リソグラフィツールの,ウエハおよびレチクル段の走査精度はナノメータである。そして,走査速度まで加速した時の位置精度と段取時間は,フィードフォワード制御器によって決まる。特に,位置精度は二つの要因,段の加速度および動的共振,の影響を受ける。本報では,フィードフォワード質量パラメータの,オンライン適応について研究した。その結果,フィードフォワード質量のみの適応では,段の動力学の補償に不十分であり,さらに高次のフィードフォワード要素の必要性が判明した。そのため,多くの側面からの研究を行ない,以下を明らかにした。適応フィードフォワード推定を,より高次のフィードフォワードと組合せると,位置とは独立の挙動を創ることによって,ピークの位置誤差が着実に低減する。

シソーラス用語： 適応 ,  フィードフォワード ,  *リソグラフィー ,  ウエハ【IC】 ,  *集積回路 ,  レチクル ,  走査 ,  位置 ,  精度 ,  *フィードフォワード制御 ,  誤差 ,  システム設計
準シソーラス用語： 位置誤差

分類 (2件)： システム設計・解析  (IA02030D) ,  混成集積回路  (NC03163K)

タイトルに関連する用語 (5件)： リソグラフィ ,  ツール ,  ウエハ ,  適応 ,  フィードフォワード