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J-GLOBAL ID:201302263825516030   整理番号:13A1386779

微細電界効果トランジスタにおけるランダムテレグラフノイズを引き起こす欠陥機構の解明

Investigation of Trap Mechanisms Causing Random Telegraph Noise in Ultra-Scaled MOSFETs
著者 (3件):
資料名:
巻: 68  号:ページ: 27-30  発行年: 2013年08月01日 
JST資料番号: F0360A  ISSN: 0372-0462  CODEN: TORBA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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近年,トランジスタの微細化に伴って,ランダムテレグラフノイズ(RTN)と呼ばれるトランジスタの動作電流が揺らぐ現象が顕著になってきている。RTNはCMOS(相補型金属酸化膜半導体)イメージセンサやNAND型フラッシュメモリの性能,特に信頼性に影響を及ぼすことが懸念されている。東芝は,このRTNの起源を解明することで高信頼化技術の指針を得る取組みを進めている。今回,微細トランジスタを用いて,RTNを引き起こす原因となる絶縁膜中の欠陥として,ニュートラル欠陥とアトラクティブ欠陥と呼ばれる2種類の欠陥の寄与と,それぞれが及ぼす影響を実験により明らかにした。アトラクティブ欠陥に比べて,ニュートラル欠陥のエネルギー分布は約100meV高く,かつしきい値電圧のシフトに与える影響が大きいことがわかった。今後,これらの結果を,トランジスタの高信頼化やRTNの影響を抑えるプロセス指針の策定に役だてていく。(著者抄録)
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分類 (2件):
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トランジスタ  ,  金属-絶縁体-半導体構造 
引用文献 (7件):
タイトルに関連する用語 (4件):
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