部品

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人ワンディーIPパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-280751
公開番号（公開出願番号）：特開2013-129882
出願日： 2011年12月22日
公開日（公表日）： 2013年07月04日
要約：

【課題】外部に露出する表層のめっき層の厚みを薄く設定できるとともに、下地めっき層及び母材の金属の腐食を長期間に亘って安定した状態で抑制できる部品を提供する。【解決手段】部品1は、金属材料で形成された本体部11と、Niめっき層を含んで本体部11の表面を被覆する下地めっき層12と、下地めっき層12を被覆するポーラスめっき層13と、ポーラスめっき層13の表面に形成されて外部に露出する表層めっき層14とを備える。ポーラスめっき層13は、ポーラス構造13aが分散して形成された多孔質体として構成される。表層めっき層14は、ポーラスめっき層13の表面において分散して形成されたポーラス構造13aを外部に露出可能に設けられる。表層めっき層14を形成する金属のイオン化傾向が、ポーラスめっき層13を形成する金属のイオン化傾向よりも小さい。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

表面にめっき層が形成された部品であって、金属材料で形成された本体部と、 Ni又はNi合金によって形成されたNiめっき層を含むとともに、前記本体部の表面を被覆するように形成された下地めっき層と、前記下地めっき層の表面を被覆するように形成されるとともに、穴及び空隙の少なくともいずれかとして設けられたポーラス構造が分散して形成された多孔質体として構成されたポーラスめっき層と、前記ポーラスめっき層の表面に形成されるとともに、外部に対して露出する表層めっき層と、を備え、前記表層めっき層は、前記ポーラスめっき層の表面において分散して形成された前記ポーラス構造を外部に露出可能に設けられ、前記表層めっき層を形成する金属のイオン化傾向が、前記ポーラスめっき層を形成する金属のイオン化傾向よりも小さいことを特徴とする、部品。

IPC (6件)：

C25D 5/12 , C25D 7/00 , C25D 5/48 , C23C 28/00 , C23C 26/00 , B32B 15/01

FI (6件)：

C25D5/12 , C25D7/00 H , C25D5/48 , C23C28/00 A , C23C26/00 K , B32B15/01 K

Fターム (49件)：

4F100AA14C , 4F100AA20C , 4F100AA37C , 4F100AB01A , 4F100AB01C , 4F100AB01D , 4F100AB15 , 4F100AB16B , 4F100AB17 , 4F100AB20C , 4F100AB24 , 4F100AB25 , 4F100AB31B , 4F100AD11C , 4F100AK17C , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10D , 4F100BA32 , 4F100DJ00C , 4F100EH71B , 4F100EH71C , 4F100EH71D , 4F100GB41 , 4F100JG04 , 4K024AA03 , 4K024AB02 , 4K024AB06 , 4K024AB09 , 4K024AB19 , 4K024BA09 , 4K024BB10 , 4K024DB01 , 4K024DB10 , 4K024GA04 , 4K024GA16 , 4K044AA06 , 4K044AB08 , 4K044BA06 , 4K044BB03 , 4K044BB04 , 4K044BC02 , 4K044BC14 , 4K044CA13 , 4K044CA15 , 4K044CA18 , 4K044CA53 , 4K044CA62

引用特許：

審査官引用 (9件)

電気接点用の接点表面および形成方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-516115 出願人：ローベルトボッシュゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
金属表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-056483 出願人：株式会社椿本チエイン
SnまたはSn合金メッキ銅合金薄板およびその薄板で製造したコネクタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-317692 出願人：三菱伸銅株式会社

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