特許
J-GLOBAL ID：201303020272839769

改質層形成方法

発明者：
関家 一馬

関家 一馬 について


出願人/特許権者：
株式会社ディスコ

株式会社ディスコ について


代理人 (2件)： 小野 尚純 ,  奥貫 佐知子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-113573
公開番号（公開出願番号）：特開2013-237097
出願日： 2012年05月17日
公開日（公表日）： 2013年11月28日
要約：
【課題】パルスレーザー光線の集光点が被加工物の表面に位置付けられてもアブレーションが起きないようにした改質層形成方法を提供する。【解決手段】被加工物に対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線を所定の照射面から内部に集光点を位置付けて照射することにより、被加工物の内部に所望の改質層を形成する改質層形成方法であって、被加工物の照射面と隣接する面がパルスレーザー光線の照射位置に位置付けられた場合には、パルスレーザー光線の出力を被加工物が加工できない出力に低下させる。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
被加工物に対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線を所定の照射面から内部に集光点を位置付けて照射することにより、被加工物の内部に所望の改質層を形成する改質層形成方法であって、 被加工物の該照射面と隣接する面がパルスレーザー光線の照射位置に位置付けられた場合には、パルスレーザー光線の出力を被加工物が加工できない出力に低下させる、 ことを特徴とする改質層形成方法。
IPC (3件)：
B23K 26/00 ,  B23K 26/04 ,  H01L 21/301
FI (3件)：
B23K26/00 N ,  B23K26/04 A ,  H01L21/78 B
Fターム (9件)：
4E068AD01 ,  4E068CA02 ,  4E068CA09 ,  4E068CA17 ,  4E068CB02 ,  4E068CC02 ,  4E068CC06 ,  4E068DA10 ,  4E068DB13
引用特許：
審査官引用 (5件)
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