特許
J-GLOBAL ID：201303023940032200

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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宮川 貴行

宮川 貴行 について

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山口 訓史

山口 訓史 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-082905
公開番号（公開出願番号）：特開2013-242544
出願日： 2013年04月11日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：
【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂並びに式(II)で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。[式中、R1は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子;A1は、単結合、*-A2-O-、*-A2-CO-O-等を表し、*は-O-との結合手、A2はアルカンジイル基;Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は、*-CO-O-La-又は*-CH2-O-Lb-を表し、*は-C(Q1)(Q2)-との結合手、La及びLbは、それぞれ2価の飽和炭化水素基;環W1は複素環;Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、並びに、式(II)で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (5件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (45件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF35P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AJ08P ,  4J100AJ08Q ,  4J100AJ08R ,  4J100AJ08S ,  4J100AJ08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA15T ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100BC84Q ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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