特許
J-GLOBAL ID：201303026548179421
基板搭載装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
三好 秀和
, 伊藤 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-124437
公開番号（公開出願番号）：特開2013-251370
出願日： 2012年05月31日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
要約：
【課題】膜の堆積に起因する変形が抑制された基板搭載装置を提供する。【解決手段】成膜処理対象の基板を搭載して成膜装置に格納される基板搭載装置であって、基板の搭載される搭載領域が定義された搭載面を有し、搭載面の少なくとも搭載領域の残余の領域である堆積領域の表面に、堆積領域に堆積される膜が堆積領域の全面に渡って連続的には搭載面と密着しないように凹凸構造が形成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
成膜処理対象の基板を搭載して成膜装置に格納される基板搭載装置であって、
前記基板の搭載される搭載領域が定義された搭載面を有し、
前記搭載面の少なくとも前記搭載領域の残余の領域である堆積領域の表面に、前記堆積領域に堆積される膜が前記堆積領域の全面に渡って連続的には前記搭載面と密着しないように凹凸構造が形成されていることを特徴とする基板搭載装置。
IPC (3件)：
H01L 21/683
, H01L 21/31
, C23C 16/458
H01L21/68 N
, H01L21/31 C
, C23C16/458
4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030BA40
, 4K030FA01
, 4K030GA02
, 5F045AA08
, 5F045AB33
, 5F045AC01
, 5F045AC12
, 5F045DP13
, 5F045EH13
, 5F045EM02
, 5F045EM08
, 5F045EM09
, 5F131AA02
, 5F131AA12
, 5F131AA34
, 5F131BA03
, 5F131BA04
, 5F131BA19
, 5F131CA06
, 5F131CA32
, 5F131CA45
, 5F131EA03
, 5F131EB54
