特許
J-GLOBAL ID：200903058543326791

真空成膜装置、エッチング装置等における装置構成部品、およびその製造方法と再生方法

発明者：
岩垂 尚史

岩垂 尚史 について

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高山 孝信

高山 孝信 について

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川内 力

川内 力 について

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紀本 直子

紀本 直子 について


出願人/特許権者：
アルバックマテリアル株式会社

アルバックマテリアル株式会社 について


代理人 (3件)： 大森 純一 ,  折居 章 ,  飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-275555
公開番号（公開出願番号）：特開2008-095132
出願日： 2006年10月06日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：
【課題】 成膜装置、プレクリーニング装置等の内部に配置される装置構成部品に厚膜状に付着した物質の剥離、 脱落を長時間に亘って抑制して汚染源のパーティクルを発生させず、装置のメンテナンスに際しては、付着物を容易に除去することができる装置構成部品を提供すること。【解決手段】 プラズマ・プレクリーニング装置10内に配置される石英ホルダー1を基材とし、ブラスト処理した表面粗さRaが約10μmの面にAl溶射膜を形成して表面粗さRaを14〜50μmとし、更にその面にプラズマ溶射法によるAl2 O3 溶射膜を形成して表面粗さRaを10〜50μmとする。このような溶射石英ホルダー1Aは付着物が厚膜化しても容易には剥離せず、メンテナンス時にはアルカリ水溶液によってAl溶射膜を溶解することにより、基材の石英ホルダー1から付着物をAl2 O3 溶射膜と共に除去して再使用することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空成膜装置、エッチング装置、プレクリーニング装置、またはアッシング装置内に配置される装置構成部品であって、 前記装置構成部品は、電気絶縁性基材と、該電気絶縁性基材の表面に形成された金属溶射膜と、該金属溶射膜の表面に形成されたセラミックス溶射膜とからなり、前記セラミックス溶射膜の表面の中心線平均粗さRaが10〜50μmの範囲内にあることを特徴とする装置構成部品。
IPC (5件)：
C23C 4/10 ,  C04B 41/90 ,  C23C 4/08 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205
FI (5件)：
C23C4/10 ,  C04B41/90 B ,  C23C4/08 ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/205
Fターム (30件)：
4G059AA20 ,  4G059AB11 ,  4G059AC30 ,  4G059DA04 ,  4G059DA05 ,  4G059DB06 ,  4G059EA01 ,  4G059EA04 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA14 ,  4K031AA01 ,  4K031AB03 ,  4K031AB07 ,  4K031CB35 ,  4K031CB37 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA03 ,  4K031DA04 ,  5F004AA13 ,  5F004BB29 ,  5F004BB30 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004EA10 ,  5F045BB15 ,  5F045EB03 ,  5F045EB06 ,  5F045EM09
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (8件)
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