特許
J-GLOBAL ID：201303063490780394
インプリントシステム及び物品の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-160303
公開番号（公開出願番号）：特開2013-026474
出願日： 2011年07月21日
公開日（公表日）： 2013年02月04日
要約：
【課題】パーティクル等の異物の影響を低減したインプリント処理に有用な技術を提供する。【解決手段】インプリント装置を含むインプリントシステムは、前記インプリント装置を格納する空間をインプリント処理がなされる第1空間と該第1空間を取り囲む第2空間とに分割する第1隔壁と、前記インプリント装置を格納する前記空間と当該空間を取り囲む第3空間とを仕切る第2隔壁と、前記第1空間及び前記第2空間に浄化された空気をそれぞれ供給する第1給気部及び第2給気部と、前記第1空間及び前記第2空間から空気をそれぞれ排出する第1排気部及び第2排気部と、前記第1空間内の異物の濃度を検出する検出器と、制御器とを備える。前記制御器は、前記検出器により検出された前記濃度が基準値を超える場合に前記第2空間を通過する空気の量に対する前記第1空間を通過する空気の量の比を増大させるように、前記第1給気部、前記第2給気部、前記第1排気部及び前記第2排気部を制御する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に塗布された樹脂と型のパターン面とを接触させた状態で該樹脂を硬化させてパターンを形成するインプリント処理を前記基板に行うインプリント装置を含むインプリントシステムであって、
前記インプリント装置を格納する空間をインプリント処理がなされる第1空間と該第1空間を取り囲む第2空間とに分割する第1隔壁と、
前記インプリント装置を格納する前記空間と当該空間を取り囲む第3空間とを仕切る第2隔壁と、
前記第1空間及び前記第2空間に浄化された空気をそれぞれ供給する第1給気部及び第2給気部と、
前記第1空間及び前記第2空間から空気をそれぞれ排出する第1排気部及び第2排気部と、
前記第1空間内の異物の濃度を検出する検出器と、
制御器と、
を備え、
前記制御器は、前記検出器により検出された前記濃度が基準値を超える場合に前記第2空間を通過する空気の量に対する前記第1空間を通過する空気の量の比を増大させるように、前記第1給気部、前記第2給気部、前記第1排気部及び前記第2排気部を制御する、
ことを特徴とするインプリントシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AM30
, 4F209AP19
, 4F209AR02
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PG05
, 4F209PH27
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 5F146AA22
, 5F146AA31
