特許
J-GLOBAL ID：201303065227471940
インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-042700
公開番号（公開出願番号）：特開2013-219333
出願日： 2013年03月05日
公開日（公表日）： 2013年10月24日
要約：
【課題】スループットの向上に有利なインプリント方法を提供する。【解決手段】このインプリント方法は、基板上のショットに形成されたアライメントマークを検出する検出器の位置を変更する工程S103と、型に形成されたパターンと基板上のショットに供給されたインプリント材とを接触させる工程S106と、検出器の位置の変更が完了した後、検出器を用いて前記アライメントマークを検出する工程S108と、を含む。ここで、接触させる工程は、検出器の位置の変更が完了する前に開始される。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板上のインプリント材と型に形成されたパターンとを接触させることで、前記インプリント材に前記パターンを転写するインプリント方法であって、
前記基板上のショットに形成されたアライメントマークを検出する検出器の位置を変更する工程と、
前記型に形成されたパターンと前記基板上のショットに供給されたインプリント材とを接触させる工程と、
前記検出器の位置の変更が完了した後、前記検出器を用いて前記アライメントマークを検出する工程と、を含み、
前記接触させる工程は、前記検出器の位置の変更が完了する前に開始されることを特徴とするインプリント方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 502D
, H01L21/30 507A
, B29C59/02 Z
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ06
, 4F209AM32
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PN20
, 4F209PQ20
, 5F146AA31
, 5F146FA14
, 5F146FA20
, 5F146FB02
, 5F146FB19
