特許
J-GLOBAL ID:201303067617036490
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-088203
公開番号(公開出願番号):特開2013-249465
出願日: 2013年04月19日
公開日(公表日): 2013年12月12日
要約:
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)のレジストパターンを製造することができる樹脂及びこれを含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される構造単位、式(II)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂であり、樹脂及び酸発生剤を含み、さらに溶剤を含有するレジスト組成物及びレジスト組成物を基板上に塗布し、乾燥させて層を形成し、露光し、加熱後の組成物層を現像する工程からなるレジストパターンの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される構造単位、式(II)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂。
IPC (3件):
C08F 220/28
, G03F 7/039
, C08F 220/38
FI (3件):
C08F220/28
, G03F7/039 601
, C08F220/38
Fターム (48件):
2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AH05
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH23
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN65P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 2H125FA05
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100BA03R
, 4J100BA15P
, 4J100BA15T
, 4J100BA34Q
, 4J100BC03S
, 4J100BC07P
, 4J100BC08Q
, 4J100BC08T
, 4J100BC09R
, 4J100BC09S
, 4J100BC53P
, 4J100BC53T
, 4J100BC83Q
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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