特許
J-GLOBAL ID：201303071980662139
基板洗浄装置及び基板洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-095894
公開番号（公開出願番号）：特開2013-232650
出願日： 2013年04月30日
公開日（公表日）： 2013年11月14日
要約：
【課題】乾燥効率を向上させることができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板洗浄装置は基板に処理液を供給して液処理する第1工程チャンバー260、基板を乾燥させる第2工程チャンバー280及び第1及び第2工程チャンバー280の間に基板を搬送する搬送ユニット500を含み、第1工程チャンバー260は基板が液処理される空間が提供される液処理ハウジング、液処理ハウジング内で基板が支持されるスピンチャック340及びスピンチャック340に支持された基板に処理液を供給する液供給部材380を含み、第2工程チャンバー280は基板が乾燥される空間が提供される乾燥ハウジング410、乾燥ハウジング410内で基板が支持される基板支持部材430及び基板を加熱するヒーター440を含む。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板に処理液を供給して液処理する第1工程チャンバーと、
前記基板を乾燥させる第2工程チャンバーと、
前記第1及び第2工程チャンバーの間に前記基板を搬送する搬送ユニットと、を含み、
前記第1工程チャンバーは、
前記基板が液処理される空間が提供される液処理ハウジングと、
前記液処理ハウジング内で前記基板が支持されるスピンチャックと、
前記スピンチャックに支持された基板に前記処理液を供給する液供給部材と、を含み、
前記第2工程チャンバーは、
前記基板が乾燥される空間が提供される乾燥ハウジングと、
前記乾燥ハウジング内で前記基板が支持される基板支持部材と、
前記基板を加熱するヒーターと、を含む基板洗浄装置。
IPC (1件)：
FI (4件)：
H01L21/304 651M
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 651G
, H01L21/304 651B
5F157AB02
, 5F157AB14
, 5F157AB33
, 5F157AB48
, 5F157AB51
, 5F157AB90
, 5F157AC15
, 5F157AC56
, 5F157BB22
, 5F157BB39
, 5F157CB03
, 5F157CB13
, 5F157CB22
, 5F157CB28
, 5F157CF20
, 5F157CF34
, 5F157CF64
, 5F157CF66
, 5F157CF86
, 5F157CF90
, 5F157DA21
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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