特許
J-GLOBAL ID：201303078861930960

レジストパターンの形成方法、永久マスクレジスト及び感光性樹脂組成物

発明者：
田中 恵生

田中 恵生 について

, 
名越 俊昌

名越 俊昌 について


出願人/特許権者：
日立化成株式会社

日立化成株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-085521
公開番号（公開出願番号）：特開2013-217954
出願日： 2012年04月04日
公開日（公表日）： 2013年10月24日
要約：
【課題】 解像性、微細開口性(丸穴解像性)、金めっき耐性、はんだ耐性及びHAST耐性に優れた感光性樹脂組成物と、それを用いたレジストパターンの形成方法及びそれにより得られた永久マスクレジストを提供する。【解決手段】 基板上に、(a)エチレン性不飽和基とカルボキシル基を有する樹脂と、(b)エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマーと、(c)光重合開始剤と、(d)塩素含有量が200ppm以下であり、加水分解性塩素の含有量が500ppm以下であるエポキシ樹脂と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記所定部分以外の前記感光層を除去し、2価の金属イオンを含有する水溶液で処理する、レジストパターンの形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基板上に、(a)エチレン性不飽和基とカルボキシル基を有する樹脂と、(b)エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマーと、(c)光重合開始剤と、(d)塩素含有量が500ppm以下であるエポキシ樹脂と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、前記感光層の所定部分を活性光線により硬化後、前記所定部分以外の前記感光層領域を除去し、2価の金属イオンを含有する水溶液で処理することを特徴とする、レジストパターンの形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/40 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/027 ,  H05K 3/28
FI (5件)：
G03F7/40 501 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/027 513 ,  G03F7/027 515 ,  H05K3/28 D
Fターム (45件)：
2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA02 ,  2H096HA03 ,  2H125AC31 ,  2H125AC34 ,  2H125AC37 ,  2H125AC54 ,  2H125AC57 ,  2H125AC63 ,  2H125AC72 ,  2H125AD02 ,  2H125AD06 ,  2H125AD07 ,  2H125AD15 ,  2H125AE03P ,  2H125AE12P ,  2H125AE15P ,  2H125AM09P ,  2H125AM62P ,  2H125AN47P ,  2H125AN61P ,  2H125AN62P ,  2H125AN94P ,  2H125AP09P ,  2H125BA16P ,  2H125BA20P ,  2H125BA22P ,  2H125CA13 ,  2H125CB05 ,  2H125CC01 ,  2H125CC13 ,  2H125CD01P ,  2H125CD36 ,  2H125EA02P ,  5E314AA27 ,  5E314AA32 ,  5E314DD05 ,  5E314DD07 ,  5E314GG01 ,  5E314GG26
引用特許：
審査官引用 (11件)
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