成膜装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-181062
公開番号（公開出願番号）：特開2013-249545
出願日： 2013年09月02日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
要約：

【課題】真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ELデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。【解決手段】真空内を基板の蒸着面を上面にして搬送し、少なくとも前記基板が移動する場合には前記基板の搬送面が摺動しないように保持し、前記真空チャンバ内で前記基板を受渡し、その後前記基板を垂直または略垂直にたてて蒸着する。また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

蒸着材料を所定の蒸着位置で基板に蒸着する真空チャンバを備え、前記基板をそれぞれ受渡する少なくとも2つの処理受渡部と、それぞれの前記処理受渡部で前記基板とシャドウマスクとの位置合わせを行い、前記基板と前記シャドウマスクを保持する複数のアライメント部と、前記蒸着位置で前記基板に蒸着材料を供給する蒸着部と、前記基板と前記シャドウマスクを保持した前記アライメント部を蒸着位置に移動させる移動機構と、を前記真空チャンバ内に有する成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 14/04 , H01L 51/50 , H05B 33/10

FI (3件)：

C23C14/04 A , H05B33/14 A , H05B33/10

Fターム (14件)：

3K107AA01 , 3K107CC35 , 3K107CC45 , 3K107GG32 , 3K107GG33 , 3K107GG34 , 3K107GG54 , 4K029AA11 , 4K029AA24 , 4K029CA01 , 4K029DA03 , 4K029HA01 , 4K029KA01 , 4K029KA09

引用特許：

出願人引用 (8件)

成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-127842 出願人：株式会社アルバック, 独立行政法人産業技術総合研究所
スパッタリング方法、及び基板保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-236178 出願人：日本真空技術株式会社
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-215790 出願人：日本真空技術株式会社

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審査官引用 (8件)

成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-127842 出願人：株式会社アルバック, 独立行政法人産業技術総合研究所
スパッタリング方法、及び基板保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-236178 出願人：日本真空技術株式会社
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-215790 出願人：日本真空技術株式会社

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