特許
J-GLOBAL ID:201303082698849260

導電性膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小島 隆司 ,  西川 裕子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-251834
公開番号(公開出願番号):特開2003-059343
特許番号:特許第4963003号
出願日: 2001年08月22日
公開日(公表日): 2003年02月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】ハフニウムと、周期表の第II族元素、第III族元素及び第V族元素から選ばれる少なくとも1種の元素とを含むゲル膜からなることを特徴とする導電性膜。
IPC (2件):
H01B 5/14 ( 200 6.01) ,  H01B 13/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01B 5/14 A ,  H01B 5/14 Z ,  H01B 13/00 503 B ,  H01B 13/00 503 C
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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