特許
J-GLOBAL ID:201303083723261202

半導体装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 緒方 保人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-113619
公開番号(公開出願番号):特開2013-243166
出願日: 2012年05月17日
公開日(公表日): 2013年12月05日
要約:
【課題】半導体素子の電極表面にアルミニウム材を用いることができ、またこのアルミニウム層を無駄に厚く形成する必要もなく、線径に関係なく銅線を半導体素子電極へ強固に接合し、高耐熱化を図る。【解決手段】パワー半導体素子10の基板に炭化珪素(SiC)を用い、この炭化珪素基板の上に、電極15として、チタン層20とアルミニウム層21を形成し、超音波振動を与えながら、上記電極15のアルミニウム層21に対して銅線16をボールボンディング又はウエッジボンディングすることにより、銅線16とチタン層20との間に、銅-アルミニウム化合物(Al4Cu9、AlCu等)23を形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
半導体素子の電極表面にアルミニウム層を形成し、この電極に銅線をワイヤボンディングする半導体装置において、 上記銅線と上記電極のアルミニウム下層の金属との間に、銅-アルミニウム化合物を形成したことを特徴とする半導体装置。
IPC (5件):
H01L 21/60 ,  H01L 21/607 ,  H01L 21/320 ,  H01L 21/768 ,  H01L 23/522
FI (5件):
H01L21/60 301P ,  H01L21/607 B ,  H01L21/60 301F ,  H01L21/60 301D ,  H01L21/88 T
Fターム (19件):
5F033GG00 ,  5F033GG01 ,  5F033GG02 ,  5F033HH08 ,  5F033HH09 ,  5F033HH11 ,  5F033HH12 ,  5F033HH18 ,  5F033MM05 ,  5F033RR22 ,  5F033VV07 ,  5F033XX12 ,  5F044AA01 ,  5F044AA14 ,  5F044EE04 ,  5F044EE06 ,  5F044EE13 ,  5F044EE21 ,  5F044FF06
引用特許:
審査官引用 (6件)
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