特許
J-GLOBAL ID：201303085107381175
マスクパターンの生成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-085723
公開番号（公開出願番号）：特開2013-217969
出願日： 2012年04月04日
公開日（公表日）： 2013年10月24日
要約：
【課題】 メインパターンの解像特性を向上させるマスクのパターンの生成方法を提供する。【解決手段】 基板上に形成すべきメインパターンのデータ、および、メインパターンが転写される層の下層のパターンのデータを取得し、下層のパターンのデータを用いてメインパターンに対する補助パターンの生成条件を設定し、生成条件を用いて補助パターンを決定し、メインパターンおよび決定された補助パターンを含むマスクのパターンのデータを生成する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
マスクを照明して前記マスクのパターンの像を基板に露光する露光装置に用いられるマスクのパターンをコンピュータを用いて生成する生成方法であって、
前記基板上に形成すべきメインパターンのデータ、および、前記メインパターンが転写される層の下層のパターンのデータを取得する取得ステップと、
前記下層のパターンのデータを用いて、前記メインパターンに対する補助パターンの生成条件を設定する設定ステップと、
前記生成条件を用いて前記補助パターンを決定する決定ステップと、
前記メインパターンおよび決定された補助パターンを含むマスクのパターンのデータを生成する生成ステップとを有することを特徴とする生成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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