特許
J-GLOBAL ID：201303085904034642

プロセス廃ガスを精製する方法

発明者：
クレーデル・グンター

クレーデル・グンター について

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ファービアーン・ルッツ

ファービアーン・ルッツ について

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ホプフェ・フォルクマル

ホプフェ・フォルクマル について


出願人/特許権者：
セントローテルム・エレクトリツシエ・アンラーゲン・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー

セントローテルム・エレクトリツシエ・アンラーゲン・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー について


代理人 (3件)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  鍛冶澤 實
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-551870
特許番号：特許第4776073号
出願日： 1999年05月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 反応室を有する廃ガス精製システム(1)にプロセス廃ガスを導入し、付属する洗浄剤の循環部を備えた精製室または収着室内でこの反応室から出る反応生成物を再処理して、半導体基板の化学的処理装置からのプロセス廃ガスを精製する方法において、 プロセス廃ガスを廃ガス精製システム(1)に入れる直前に、プロセス廃ガス中の有害物質であるC2F4,CF4,C4F6のうち少なくとも1つの種類と量を第一の検出器によって連続的に測定し、同時に廃ガス精製システム(1)から出る反応生成物であるHFに加えて前記有害物質のうち少なくとも1つの種類と量を廃ガス精製システム(1)の出口の直後で第二の検出器によって連続的に測定し、これら測定値を、廃ガス精製システム(1)の動作パラメータである燃焼ガス量、酸素割合及び洗浄剤のpH値の調整に使用することを特徴とする方法。
IPC (3件)：
B01D 53/46 ( 200 6.01) ,  F23G 7/06 ( 200 6.01) ,  F23J 15/00 ( 200 6.01)
FI (3件)：
B01D 53/34 120 A ,  F23G 7/06 ZAB M ,  F23J 15/00 Z
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (12件)
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