特許
J-GLOBAL ID:201303089930658552
マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
, 谷口 信行
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-531343
公開番号(公開出願番号):特表2013-506979
出願日: 2010年09月27日
公開日(公表日): 2013年02月28日
要約:
作動中に第1のファセット光学要素に印加される偏光分布を生成するコレクターミラーを含み、異なる偏光を有する放射線が印加される少なくとも2つの第1のファセット要素が存在し、更に、第1のファセット光学要素が、この照明光学ユニットの作動中に物体視野の位置に第1の所定の偏光分布がもたらされるように第1のファセット要素の反射面の法線ベクトルが選択される少なくとも1つの第1の状態を有する照明光学ユニット。【選択図】図5a
請求項(抜粋):
コレクターミラー(5,905)を含み、かつ物体平面(23)の物体視野(21)を照明するための複数の第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)を有する第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)を含み、各第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)が、その方向が反射面の向きを空間的に定める法線ベクトルを備えた反射面を有するEUVマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット(3)であって、
コレクターミラー(5,905)が、照明光学ユニット(3)の作動中に第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)に印加される偏光分布を生成し、異なる偏光を有する放射線が印加される少なくとも2つの第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)が存在し、
前記第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)は、前記第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の反射面の法線ベクトルが、照明光学ユニット(3)の前記作動中に物体視野(21)の位置で第1の所定の偏光分布がもたらされるように選択される少なくとも1つの第1の状態を有する、
ことを特徴とする照明光学ユニット。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 531A
, G02B5/30
Fターム (11件):
2H149AA21
, 2H149AB03
, 2H149AB26
, 2H149BA04
, 2H149BA27
, 2H149FA41W
, 5F146GA03
, 5F146GA21
, 5F146GA27
, 5F146GB11
, 5F146GB13
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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