特許
J-GLOBAL ID：201303091178621258

蛍光X線分光装置及び蛍光X線分析装置

発明者：
宇高 忠

宇高 忠 について

, 
村岡 弘一

村岡 弘一 について


出願人/特許権者：
株式会社テクノエックス

株式会社テクノエックス について


代理人 (1件)： 田甫 佐雅博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-289110
公開番号（公開出願番号）：特開2013-137273
出願日： 2011年12月28日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：
【課題】 0.5ppm以下の微量元素を分光・分析可能とする蛍光X線分光装置及び蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】 X線源からの一次X線2を測定試料に照射させて、測定試料1中の元素を励起し、測定試料1から蛍光X線3と散乱X線4を発生させる。分光系20は、第1の分光手段22と第2の分光手段23と1つのX線検出器24を最適化された光学系となるように配置する。第1の分光手段22は蛍光X線3を分光してX線検出器24に集光させ、第2の分光手段23は散乱X線4を分光してX線検出器24に集光させる。これによって、分光系20は、1つのX線検出器24によって蛍光X線3の強度と散乱X線4の強度を検出し得る態様に、分光する。一方、蛍光X線分析装置30は、蛍光X線3の強度と散乱X線4の強度の比に基づき、検量線を参照して微量の元素を高精度に分析する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
一次X線を発生して測定試料に照射するX線源、 前記測定試料から発生された蛍光X線を分光する第1の分光手段、 前記測定試料から散乱された散乱X線を分光する第2の分光手段、および 前記第1の分光手段によって分光された蛍光X線と、前記第2の分光手段によって分光された散乱X線を受光し得る位置に配置され、蛍光X線と散乱X線を受光する1つのX線検出器を備えた、蛍光X線分光装置。
IPC (1件)：
G01N 23/223
FI (1件)：
G01N23/223
Fターム (15件)：
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA14 ,  2G001CA01 ,  2G001DA02 ,  2G001EA01 ,  2G001EA03 ,  2G001FA06 ,  2G001FA08 ,  2G001GA01 ,  2G001JA06 ,  2G001KA01 ,  2G001LA04 ,  2G001MA02 ,  2G001NA08
引用特許：
審査官引用 (5件)
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