特許
J-GLOBAL ID：201303093228187450

静電容量トランスデューサの製造方法

発明者：
ティエンシェン・ジョウ

ティエンシェン・ジョウ について


出願人/特許権者：
ティエンシェン・ジョウ

ティエンシェン・ジョウ について


代理人 (2件)： 細井 勇 ,  佐藤 太亮
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-246705
公開番号（公開出願番号）：特開2013-081185
出願日： 2012年11月08日
公開日（公表日）： 2013年05月02日
要約：
【課題】感度の高い静電容量トランスデューサの製造方法を提供する。【解決手段】一連の可動フィンガおよび一連の固定フィンガのうちの一方の位置を画定するために、基体上の層に第1エッチングマスクを適用する。一連の可動フィンガ、一連の固定フィンガ、本体及びばねを画定するために、第2エッチングマスクを適用する。本体は一連の可動フィンガ及びばねに接続され、一連の可動フィンガは一連の固定フィンガと相互に入り込む。第2エッチングマスクを使用して、層および第1エッチングマスクをエッチングする。第1エッチングマスクを使用して、一連の可動フィンガと一連の固定フィンガとのうちの一方が、一連の可動フィンガと一連の固定フィンガのもう一方より短くなるように、エッチングされた層をエッチングする。力が本体に加わったときに、本体が基体に対して平行に動くように、本体、ばね及び一連の可動フィンガをエッチングを用いて分離する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
一連の可動フィンガおよび一連の固定フィンガのうちの一方の位置を画定するために、層上に第1エッチングマスクを適用する工程であって、前記層は基体上に設けられる工程と、 前記一連の可動フィンガ、前記一連の固定フィンガ、本体およびばねを画定するために、第2エッチングマスクを適用する工程であって、前記本体は前記一連の可動フィンガおよび前記ばねに接続され、前記一連の可動フィンガは前記一連の固定フィンガと相互に入り込む、工程と、 前記第2エッチングマスクを使用して前記層および前記第1エッチングマスクをエッチングする工程と、 前記第2エッチングマスクを除去する工程と、 前記一連の可動フィンガと前記一連の固定フィンガとのうちの一方が、前記一連の可動フィンガと前記一連の固定フィンガのもう一方より短くなるように、前記エッチングされた第1エッチングマスクを使用して前記層をエッチングする工程と、 力が前記本体に加わったときに、前記本体が前記基体に対して平行に動くように、前記本体、前記ばねおよび前記一連の可動フィンガをエッチングを用いて分離する工程と、 を備える静電容量トランスデューサの製造方法。
IPC (3件)：
H04R 31/00 ,  H01L 29/84 ,  H04R 19/04
FI (3件)：
H04R31/00 C ,  H01L29/84 Z ,  H04R19/04
Fターム (26件)：
4M112AA01 ,  4M112AA02 ,  4M112AA06 ,  4M112BA07 ,  4M112CA01 ,  4M112CA03 ,  4M112CA04 ,  4M112CA11 ,  4M112CA12 ,  4M112CA13 ,  4M112DA03 ,  4M112DA04 ,  4M112DA09 ,  4M112DA11 ,  4M112DA15 ,  4M112DA18 ,  4M112EA03 ,  4M112EA06 ,  4M112EA14 ,  4M112EA18 ,  4M112FA01 ,  4M112FA20 ,  4M112GA03 ,  5D021CC02 ,  5D021CC05 ,  5D021CC20
引用特許：
審査官引用 (7件)
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