多孔性高分子フィルムの製造方法および多孔性高分子フィルム

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：鎌田耕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-067306
公開番号（公開出願番号）：特開2013-227548
出願日： 2013年03月27日
公開日（公表日）： 2013年11月07日
要約：

【課題】工業的な生産に適した、多孔性高分子フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】加速させたイオンから構成されるイオンビームを高分子フィルムに照射して、当該ビーム中のイオンが衝突した高分子フィルムを形成する工程(I)と、工程(I)で形成した高分子フィルムを化学エッチングして、イオンの衝突の軌跡に対応する開口および/または貫通孔を高分子フィルムに形成する工程(II)とを含み、工程(I)において、圧力100Pa以上の雰囲気に高分子フィルムを配置し、イオンビームを、前記雰囲気よりも低い圧力に保たれたビームラインならびに当該ビームラインの末端に配置された、ビームラインと前記雰囲気とを分離する圧力隔壁シートを通過させて、前記雰囲気にある高分子フィルムに照射する方法とする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

加速させたイオンから構成されるイオンビームを高分子フィルムに照射して、前記ビーム中のイオンが衝突した高分子フィルムを形成する工程(I)と、前記形成した高分子フィルムを化学エッチングして、前記イオンの衝突の軌跡に対応する開口および/または貫通孔を前記高分子フィルムに形成する工程(II)と、を含み、前記工程(I)において、圧力100Pa以上の雰囲気に前記高分子フィルムを配置し、前記イオンビームを、前記雰囲気よりも低い圧力に保たれたビームラインならびに前記ビームラインの末端に配置された、前記ビームラインと前記雰囲気とを分離する圧力隔壁シートを通過させて、前記雰囲気にある前記高分子フィルムに照射する、多孔性高分子フィルムの製造方法。

IPC (5件)：

C08J 9/36 , G21K 5/04 , G21K 5/00 , G21K 5/10 , C08J 9/00

FI (7件)：

C08J9/36 , G21K5/04 A , G21K5/00 W , G21K5/00 B , G21K5/10 S , G21K5/04 S , C08J9/00 Z

Fターム (6件)：

4F074AA66 , 4F074CA10 , 4F074CC48 , 4F074CD14 , 4F074DA43 , 4F074DA47

引用特許：

審査官引用 (9件)

特公昭46-005680
特表平1-500577
ビーム加工装置およびビーム観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-247498 出願人：株式会社平出精密, 野村ユニソン株式会社, 学校法人東洋大学, 長野県

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