特許
J-GLOBAL ID：201303098708466482
微細構造体の製造方法、複合体
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (4件)：
鈴木 史朗
, 志賀 正武
, 高橋 詔男
, 伏見 俊介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-166938
公開番号（公開出願番号）：特開2013-027964
出願日： 2011年07月29日
公開日（公表日）： 2013年02月07日
要約：
【課題】金属水酸化物または金属酸化物からなる微細構造体を容易に、導電性基板上に規則的に配列させて作製できる微細構造体の製造方法および該製造方法を用いて得られる複合体の提供。【解決手段】導電性基板13上に、側鎖に液晶性分子構造を有する両親媒性ブロック共重合体を溶媒に溶解した溶液を塗布して両親媒性ブロック共重合体膜11を形成する。次に、両親媒性ブロック共重合体膜11が形成された導電性基板13に対して熱処理を行って、該両親媒性ブロック共重合体膜11内を、親水相と疎水相とに相分離させ、相分離構造膜14とする。その後、導電性基板13に対して電解析出処理を行う。これにより、相分離構造膜14の親水相15の位置に、金属水酸化物または金属酸化物からなる微細構造体16が形成される。電解析出処理の後、さらに、相分離構造膜14のみを除去する工程を行ってもよい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
有機膜が形成されていてもよい導電性基板上に、側鎖に液晶性分子構造を有する両親媒性ブロック共重合体を溶媒に溶解した溶液を塗布して両親媒性ブロック共重合体膜を形成した後、熱処理することにより、該両親媒性ブロック共重合体膜内を、親水相と疎水相とに相分離させる相分離工程と、
前記両親媒性ブロック共重合体膜に、金属塩を溶媒に溶解した電解液を接触させ、前記導電性基板を電極として電解処理を行うことにより、前記両親媒性ブロック共重合体膜の親水相の位置に金属水酸化物または金属酸化物を析出させ、該金属水酸化物または金属酸化物からなる微細構造体を形成する電解析出処理工程と、
を有することを特徴とする微細構造体の製造方法。
IPC (4件)：
B82B 3/00
, B82Y 40/00
, B82Y 30/00
, C08F 283/06
B82B3/00
, B82Y40/00
, B82Y30/00
, C08F283/06
4J026AA31
, 4J026AB24
, 4J026BA27
, 4J026BB02
, 4J026DB16
, 4J026DB24
, 4J026FA04
, 4J026FA05
, 4J026GA01
, 4J026GA10
, 5C135FF23
, 5C135HH15
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
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