特許
J-GLOBAL ID：201303099667386750
円形状特性測定方法、装置及びプログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
伊丹 勝
, 田村 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-145301
公開番号（公開出願番号）：特開2013-011547
出願日： 2011年06月30日
公開日（公表日）： 2013年01月17日
要約：
【課題】操作者の負担を増すことなく、最適な条件で精度の良い測定が可能な円形状特性測定方法、装置及びプログラムを提供することが可能となる。【解決手段】円形状特性測定装置は、円形断面を有する被測定物の円形断面の輪郭形状を測定し測定データを得る形状測定機と、形状測定機で得られた測定データに対して転がり円処理及びフィルタ処理を行って得られた輪郭データに基づいて円形断面の円形状特性を算出する演算処理装置とを有する。演算処理装置は、フィルタ処理のカットオフ値、最小サンプリング点数、及び転がり円処理における円形断面の径と測定子の径の比からなる3つのパラメータのうちの1つを入力する入力装置と、3つのパラメータの関係を記憶し、入力されたパラメータから他の2つのパラメータを決定するパラメータテーブルと、最小サンプリング点数に基づいて測定データを間引き処理する間引き処理部とを備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
円形断面を有する被測定物の前記円形断面の輪郭形状を測定し測定データを得る形状測定機と、
前記形状測定機で得られた測定データに対して転がり円処理及びフィルタ処理を行って得られた輪郭データに基づいて前記円形断面の円形状特性を算出する演算処理装置と
を有し、
前記演算処理装置は、
前記フィルタ処理のカットオフ値、最小サンプリング点数、及び転がり円処理における前記円形断面の径と測定子の径の比からなる3つのパラメータのうちのいずれか1つを入力パラメータとして入力する入力装置と、
前記3つのパラメータの関係を記憶し、前記入力手段により入力された入力パラメータから他の2つのパラメータを決定するパラメータテーブルと、
前記パラメータテーブルにより決定された最小サンプリング点数に基づいて前記測定データを間引き処理する間引き処理部と
を備えた
ことを特徴とする円形状特性測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
2F062AA51
, 2F062AA57
, 2F062BB03
, 2F062BB04
, 2F062EE01
, 2F062EE62
, 2F062FF04
, 2F062FF17
, 2F062HH05
, 2F062HH13
, 2F062JJ00
, 2F062LL11
, 2F062LL12
