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J-GLOBAL ID:201402224590742543   整理番号:14A0706437

大量ドープしたホッピングp+層とn+層を用いて作製したダイヤモンド電子素子

Diamond electronic devices fabricated using heavily doped hopping p+ and n+ layers
著者 (14件):
資料名:
巻: 53  号: 5S1  ページ: 05FA12.1-05FA12.8  発行年: 2014年05月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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オン抵抗が非常に低いダイヤモンドダイオードを示し論じた。室温でホッピング伝導を示す,大量の硼素をドープしたp「+型と燐をドープしたn+型ダイヤモンド膜を用いた。これらのダイヤモンド模型は独特の性質を持ち,約1020cm-3の高い不純物濃度でも結晶度を劣化させずに電気抵抗率が劇的に低下する。この独特の性質を二種類のダイヤモンドダイオードに適用した。一方はp+-i-n+接合ダイオード,他方はp+-nとn型Schottky接合の組合せからなるSchottky pnダイオードである。両ダイオードの電流電圧特性と容量電圧特性を評価した。結果はmΩcm2台の低いオン電気抵抗率とns台の高速スイッチングを示した。これらの結果はホッピングp+層とn+層を用いて低損失ダイヤモンドダイオードを実現できることを示唆する。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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ダイオード 
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