MAKINO Toshiharu について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
MAKINO Toshiharu について
JST-CREST, Ibaraki, JPN について
OYAMA Kazuhiro について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
KATO Hiromitsu について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
KATO Hiromitsu について
JST-CREST, Ibaraki, JPN について
TAKEUCHI Daisuke について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
TAKEUCHI Daisuke について
JST-CREST, Ibaraki, JPN について
OGURA Masahiko について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
OGURA Masahiko について
JST-CREST, Ibaraki, JPN について
OKUSHI Hideyo について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
OKUSHI Hideyo について
JST-CREST, Ibaraki, JPN について
YAMASAKI Satoshi について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
YAMASAKI Satoshi について
JST-CREST, Ibaraki, JPN について
YAMASAKI Satoshi について
Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN について
Japanese Journal of Applied Physics について
ホッピング伝導 について
N型半導体 について
P型半導体 について
ドーピング について
電気抵抗率 について
ダイヤモンド について
ダイオード について
PINダイオード について
PN接合 について
Schottky障壁ダイオード について
電流電圧特性 について
容量電圧特性 について
固体素子 について
半導体材料 について
電子素子 について
ダイオード について
ドープ について
ホッピング について
作製 について
ダイヤモンド について
電子素子 について