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J-GLOBAL ID：201402276823128522   整理番号：14A0706498

Pd-Cu-Ge金属ガラス薄膜に関する熱処理による構造変化のX線反射率を用いた検出

Detection of structural change of Pd-Cu-Ge metallic glass thin films upon heat treatment by using X-ray reflectivity

著者 (4件)： YAMAMOTO Tokujiro (Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN) ,  HAYASHI Kouichi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SUZUKI Kosuke (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  ITO Masahisa (Gunma Univ., Gunma, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 53  号： 5S1  ページ： 05FH03.1-05FG03.4  発行年： 2014年05月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱処理したPd-Cu-Ge金属ガラス薄膜のX線反射率を室温で測定した。この薄膜の密度,厚さおよび表面粗さを,Siウエハ上に堆積させた金属ガラス薄膜からなる単純なモデルを用いて理論計算した反射率プロフィルを,実験で測定したプロフィルに当てはめることによって決定した。結晶化による密度の増大,厚さの減少,および表面粗さの増大を,X線反射率によって明瞭に検出した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *金属ガラス ,  *パラジウム合金 ,  銅含有合金 ,  ゲルマニウム含有合金 ,  *薄膜 ,  真空蒸着 ,  基板 ,  X線回折 ,  電気抵抗率 ,  温度依存性 ,  反射率 ,  ケイ素 ,  ウエハ【IC】 ,  密度 ,  膜厚 ,  表面粗さ ,  X線反射率 ,  シリコンウエハ

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  非晶質金属の構造  (BK04020D)

引用文献 (26件)：

• W. Klement, R. H. Willens, and P. Duwez, Nature 187, 869 (1960).
• A. J. Drehman, A. L. Greer, and D. Turnbull, Appl. Phys. Lett. 41, 716 (1982).
• A. Inoue, T. Zhang, and T. Masumoto, Mater. Trans., JIM 31, 425 (1990).
• A. Peker and W. L. Johnson, Appl. Phys. Lett. 63, 2342 (1993).
• H. W. Kui, A. L. Greer, and D. Turnbull, Appl. Phys. Lett. 45, 615 (1984).

タイトルに関連する用語 (6件)： Ge ,  金属ガラス ,  薄膜 ,  熱処理 ,  構造変化 ,  X線反射率