Art

J-GLOBAL ID：201402276823128522   Reference number：14A0706498

Detection of structural change of Pd-Cu-Ge metallic glass thin films upon heat treatment by using X-ray reflectivity

Pd-Cu-Ge金属ガラス薄膜に関する熱処理による構造変化のX線反射率を用いた検出

Author (4)： YAMAMOTO Tokujiro (Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN) ,  HAYASHI Kouichi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SUZUKI Kosuke (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  ITO Masahisa (Gunma Univ., Gunma, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 53  Issue： 5S1  Page： 05FH03.1-05FG03.4  Publication year： May. 2014 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *metallic glass ,  *palladium base alloy ,  copper containing alloy ,  germanium containing alloy ,  *thin film ,  vacuum deposition ,  substrate(plate) ,  X-ray diffraction ,  electrical resistivity ,  temperature dependence ,  reflectivity ,  silicon ,  wafer ,  density ,  film thickness ,  surface roughness
Semi thesaurus term： X-ray reflectivity ,  Si wafer

JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Structure of amorphous metals  (BK04020D)

Reference (26)：

• W. Klement, R. H. Willens, and P. Duwez, Nature 187, 869 (1960).
• A. J. Drehman, A. L. Greer, and D. Turnbull, Appl. Phys. Lett. 41, 716 (1982).
• A. Inoue, T. Zhang, and T. Masumoto, Mater. Trans., JIM 31, 425 (1990).
• A. Peker and W. L. Johnson, Appl. Phys. Lett. 63, 2342 (1993).
• H. W. Kui, A. L. Greer, and D. Turnbull, Appl. Phys. Lett. 45, 615 (1984).

Terms in the title (6)： Ge ,  金属ガラス ,  薄膜 ,  熱処理 ,  構造変化 ,  X線反射率