特許
J-GLOBAL ID：201403004021017168

分割オフ方式のリバースオフセット印刷方法

発明者：
李 澤旻

李 澤旻 について

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金 仁英

金 仁英 について

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姜 東佑

姜 東佑 について


出願人/特許権者：
コリア・インスティテュート・オブ・マシナリー・アンド・マテリアルズ

コリア・インスティテュート・オブ・マシナリー・アンド・マテリアルズ について


代理人 (3件)： 北村 修一郎 ,  三宅 一郎 ,  太田 隆司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-213784
公開番号（公開出願番号）：特開2013-212680
特許番号：特許第5500743号
出願日： 2012年09月27日
公開日（公表日）： 2013年10月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 パターン領域および前記パターン領域を囲むせん断領域を含む機能性インクが一面に塗布されたブランケットを準備する段階と、 前記せん断領域のうちの一部を含む前記機能性インクと接触する第1接触部が一面に形成された第1クリシェを前記ブランケットに接触させる段階と、 前記ブランケットと前記第1クリシェを分離し、前記第1接触部と接触した前記機能性インクを前記ブランケットから除去する段階と、 前記せん断領域のうちの他の一部を含む前記機能性インクと接触する第2接触部が一面に形成された第2クリシェを前記ブランケットに接触させる段階と、 前記ブランケットと前記第2クリシェを分離し、前記第2接触部と接触した前記機能性インクを前記ブランケットから除去する段階と、を含み、 前記パターン領域は、互いに離隔して格子パターンで配列される複数の四角形断面形状を含み、 前記第1クリシェは、前記格子パターンの横方向に形成される複数の前記第1接触部および前記第1接触部の間ごとに陰刻形成される第1凹溝部を含み、 前記第2クリシェは、前記格子パターンの縦方向に形成される複数の前記第2接触部および前記第2接触部の間ごとに陰刻形成される第2凹溝部を含む、リバースオフセット印刷方法。
IPC (3件)：
B41M 1/02 ( 200 6.01) ,  B41F 3/20 ( 200 6.01) ,  B41F 17/14 ( 200 6.01)
FI (3件)：
B41M 1/02 ,  B41F 3/20 C ,  B41F 17/14 E
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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