特許
J-GLOBAL ID:201403004877780334
半導体発光素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
豊栖 康弘
, 豊栖 康司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-173449
公開番号(公開出願番号):特開2014-044971
出願日: 2012年08月03日
公開日(公表日): 2014年03月13日
要約:
【課題】取り出し効率を高めつつ、素子の信頼性にも優れた半導体発光素子を提供することにある。【解決手段】活性領域8を含む半導体構造11と、半導体構造11の上面に形成される透光性導電層13と、透光性導電層13の上面に形成される誘電体膜4と、誘電体膜4の上面に形成される金属反射層22と、を備える半導体発光素子であって、誘電体膜4は、透光性導電層13を部分的に表出させるように、1以上の開口部21を設けており、透光性導電層13は、開口部21を介して金属反射層22と電気的に接合されており、開口部21を被覆するように、部分的にバリア層24が形成され、該バリア層24を透光性導電層13と金属反射層22との間に介在させている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
活性領域(8)を含む半導体構造(11)と、
前記半導体構造(11)の上面に形成される透光性導電層(13)と、
前記透光性導電層(13)の上面に形成される誘電体膜(4)と、
前記誘電体膜(4)の上面に形成される金属反射層(22)と、
を備える半導体発光素子であって、
前記誘電体膜(4)は、前記透光性導電層(13)を部分的に表出させるように、1以上の開口部(21)を設けており、
前記透光性導電層(13)は、前記開口部(21)を介して前記金属反射層(22)と電気的に接合されており、
前記開口部(21)を被覆するように、部分的にバリア層(24)が形成され、該バリア層(24)が前記透光性導電層(13)と金属反射層(22)との間に介在されてなることを特徴とする半導体発光素子。
IPC (5件):
H01L 33/38
, H01L 33/10
, H01L 33/42
, H01L 33/40
, H01L 33/48
FI (5件):
H01L33/00 210
, H01L33/00 130
, H01L33/00 222
, H01L33/00 220
, H01L33/00 400
Fターム (29件):
5F141AA03
, 5F141AA43
, 5F141CA02
, 5F141CA03
, 5F141CA04
, 5F141CA05
, 5F141CA40
, 5F141CA77
, 5F141CA88
, 5F141CA92
, 5F141CA93
, 5F141CA98
, 5F141CB15
, 5F141FF01
, 5F141FF11
, 5F142BA02
, 5F142BA32
, 5F142BA34
, 5F142CA11
, 5F142CA13
, 5F142CB03
, 5F142CB07
, 5F142CD02
, 5F142CD44
, 5F142CD47
, 5F142DB02
, 5F142GA01
, 5F142GA11
, 5F142GA21
引用特許:
審査官引用 (8件)
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-255434
出願人:パナソニック電工株式会社
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発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-001568
出願人:日亜化学工業株式会社
-
発光装置及び発光装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-185824
出願人:豊田合成株式会社
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