ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：竹尾由重 , 時岡恭平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-031973
公開番号（公開出願番号）：特開2014-164303
出願日： 2014年02月21日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
要約：

【課題】本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関する。【解決手段】前記ポジ型感光性樹脂組成物は、ノボラック樹脂(A)と、o-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル(B)と、ヒドロキシ化合物(C)と、溶剤(D)と、を含む。前記ノボラック樹脂(A)は、ヒドロキシ型ノボラック樹脂(A-1)及びキシレノール型ノボラック樹脂(A-2)を更に含む。前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂(A-1)は、ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物と芳香族ヒドロキシ化合物とを縮合してなる。前記キシレノール型ノボラック樹脂(A-2)は、アルデヒド類化合物とキシレノール化合物とを縮合してなる。ポストベークされたポジ型感光性樹脂組成物は、高い膜厚及び良好な断面プロフィールを有するパターンを有益に形成することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物と芳香族ヒドロキシ化合物とを縮合してなるヒドロキシ型ノボラック樹脂(A-1)と、アルデヒド類化合物とキシレノール化合物とを縮合してなるキシレノール型ノボラック樹脂(A-2)と、を含むノボラック樹脂(A)と、 o-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル(B)と、ヒドロキシ化合物(C)と、溶剤(D)と、を含むポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/023 , G03F 7/022 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , G02F 1/134 , C08G 8/04 , C08G 8/00

FI (7件)：

G03F7/023 511 , G03F7/022 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R , G02F1/1343 , C08G8/04 , C08G8/00 H

Fターム (40件)：

2H092GA13 , 2H092JA26 , 2H092JA47 , 2H092JB69 , 2H092KA05 , 2H092MA15 , 2H092MA16 , 2H092MA17 , 2H125AE03P , 2H125AF03P , 2H125AF05P , 2H125AF70P , 2H125AM10P , 2H125AM80P , 2H125AN11P , 2H125AN21P , 2H125AN24P , 2H125AN25P , 2H125AN37P , 2H125AN39P , 2H125AN43P , 2H125AN57P , 2H125BA01P , 2H125BA22P , 2H125BA33P , 2H125CA22 , 2H125CB02 , 2H125CC03 , 2H125CC21 , 2H125CD20P , 2H125CD31 , 4J033CA02 , 4J033CA03 , 4J033CA05 , 4J033CA11 , 4J033CA12 , 4J033CB03 , 4J033CB25 , 4J033CC03 , 4J033CC08

引用特許：

審査官引用 (7件)

レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-250356 出願人：東友ファインケム株式会社, 住友化学工業株式会社
ノボラック樹脂ブレンドを含むフォトレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-014797 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
ポジティブ型ドライフィルムフォトレジスト及びこれを製造するための組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-545373 出願人：コーロンインダストリーズ,インコーポレイテッド

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