特許
J-GLOBAL ID：201403010159324380

ホウ素含有排水処理方法およびホウ素含有排水処理システム

発明者：
島田 和哉

島田 和哉 について


出願人/特許権者：
パナソニック株式会社

パナソニック株式会社 について


代理人 (1件)： 廣幸 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-014844
公開番号（公開出願番号）：特開2014-144433
出願日： 2013年01月29日
公開日（公表日）： 2014年08月14日
要約：
【課題】ホウ素含有排水を処理するには、消石灰を大量に使用するので汚泥が大量に発生し、沈降分離させるための大きな沈殿槽が必要であった。【解決手段】ホウ素を含有する排水に、アルミニウム化合物、硫酸化合物、カルシウム化合物、およびpH調整剤を添加して、pHをアルカリ性に調整した反応液中に析出物を析出させる反応工程と、前記反応液を前記析出物と清浄な処理水に分離する固液分離工程を有し、前記固液分離工程は、前記反応液をセラミックスを素材とする分離膜を通過させる分離工程であることを特徴とするホウ素含有排水処理方法によれば、ろ過の際に分離膜が目詰まりしにくいので、大きな沈殿槽を必要としない。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ホウ素を含有する排水に、 アルミニウム化合物、硫酸化合物、カルシウム化合物、およびpH調整剤を添加して、pHをアルカリ性に調整した反応液中に析出物を析出させる反応工程と、 前記反応液を前記析出物と清浄な処理水に分離する固液分離工程を有し、 前記固液分離工程は、前記反応液を、セラミックスを素材とする分離膜に通過させることを特徴とするホウ素含有排水処理方法。
IPC (5件)：
C02F 1/58 ,  C02F 1/56 ,  B01D 71/02 ,  C02F 1/44 ,  B01D 39/20
FI (5件)：
C02F1/58 H ,  C02F1/56 K ,  B01D71/02 ,  C02F1/44 E ,  B01D39/20 D
Fターム (40件)：
4D006GA02 ,  4D006KA01 ,  4D006KA72 ,  4D006KB13 ,  4D006KB30 ,  4D006KE21P ,  4D006KE23Q ,  4D006MA22 ,  4D006MC03 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB70 ,  4D015BA19 ,  4D015BA22 ,  4D015BB05 ,  4D015CA20 ,  4D015DB02 ,  4D015DB12 ,  4D015EA03 ,  4D015EA35 ,  4D015EA37 ,  4D015FA01 ,  4D015FA02 ,  4D015FA03 ,  4D015FA11 ,  4D015FA28 ,  4D015FA30 ,  4D019AA03 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019BD01 ,  4D038AA08 ,  4D038AB25 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB09 ,  4D038BB13 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18
引用特許：
審査官引用 (12件)
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