多孔質膜積層体

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：的場基憲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-070945
公開番号（公開出願番号）：特開2009-229483
特許番号：特許第5370981号
出願日： 2008年03月19日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】多孔質膜を基板上に少なくとも1層積層してなる多孔質膜積層体であって、上記多孔質膜が、無機酸化物あるいは有機修飾無機酸化物、有機ポリマー、反応促進剤から成り、膜厚方向に屈折率の傾斜構造を有し、上記反応促進剤がコバルト錯体であり、その含有量が1mol%以上であることを特徴とする多孔質膜積層体。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ( 200 6.01) , B32B 7/02 ( 200 6.01) , G02F 1/1335 ( 200 6.01) , C03C 17/28 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G02B 1/10 ZNM A , B32B 7/02 103 , G02F 1/133 , C03C 17/28 A

引用特許：

出願人引用 (6件)

多孔性シリカ膜、それを有する積層体
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-185552 出願人：三菱化学株式会社
固体酸化物形燃料電池用電極層及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-051491 出願人：大日本印刷株式会社
前駆体物質溶浸およびコーティング方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2008-507948 出願人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア

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審査官引用 (2件)

多孔性シリカ膜、それを有する積層体
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-185552 出願人：三菱化学株式会社
反射防止膜の形成方法
公報種別：再公表公報出願番号：JP2006311598 出願人：日立化成工業株式会社, 三菱電機株式会社

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