特許
J-GLOBAL ID：201403030661706815
マスクパターンの決定方法、プログラム、情報処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-033509
公開番号（公開出願番号）：特開2014-165271
出願日： 2013年02月22日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
要約：
【課題】 パターンを複数のマスクのパターンに分割する際に、解像容易な各マスクのパターンを決定する。【解決手段】 複数のマスクの各々のパターンを情報処理装置を用いて決定する決定方法であって、複数のパターン要素を含むパターンのデータを取得する工程と、取得した複数のパターン要素の各々をいずれかのマスクに割り当てて各マスクのパターンに分け、マスクの数と各マスクにおける複数のパターン要素間の距離と各マスクにおける複数のパターン要素間を結ぶ線の角度とにより定まる評価指標の評価値を計算する工程とを有し、計算された前記評価値に基づいて各マスクのパターンを決定する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数のマスクの各々のパターンを情報処理装置を用いて決定する決定方法であって、
複数のパターン要素を含むパターンのデータを取得する工程と、
取得した複数のパターン要素の各々をいずれかのマスクに割り当てて各マスクのパターンに分ける分け、マスクの数と、各マスクにおける複数のパターン要素間の距離と、各マスクにおける複数のパターン要素間を結ぶ線の角度と、により定まる評価指標の評価値を計算する工程とを有し、
計算された前記評価値に基づいて各マスクのパターンを決定することを特徴とする決定方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 502C
, H01L21/30 514C
, G03F7/20 521
5F146AA13
, 5F146AA25
, 5F146DA06
