特許
J-GLOBAL ID：201403043165464237

液処理装置、液処理方法、測定用冶具

発明者：
赤田 光

赤田 光 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-074993
公開番号（公開出願番号）：特開2014-199881
出願日： 2013年03月29日
公開日（公表日）： 2014年10月23日
要約：
【課題】基板に処理液を吐出して処理を行う液処理装置において、前記処理液の基板への吐出量を安全に測定できる技術を提供すること。【解決手段】基板を保持するための基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を吐出して液処理を行うための処理液吐出部と、前記処理液の前記基板への吐出量を検査するために前記処理液吐出部からその吐出量が予め設定された量となるように吐出された処理液が貯留される凹部を撮像し、画像データを取得するための撮像部と、前記画像データに基づいて前記凹部に貯留された処理液の量を測定するデータ処理部と、を備えるように装置を構成する。このように構成して、作業員が装置に立ち入る必要をなくす。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を保持するための基板保持部と、 前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を吐出して液処理を行うための処理液吐出部と、 前記処理液の前記基板への吐出量を検査するために前記処理液吐出部から吐出された処理液が貯留される凹部を撮像し、画像データを取得するための撮像部と、 前記画像データに基づいて前記凹部に貯留された処理液の量を測定するデータ処理部と、 を備えることを特徴とする液処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/00 ,  B05D 3/00 ,  B05D 1/40
FI (5件)：
H01L21/30 564C ,  B05C11/08 ,  B05C11/00 ,  B05D3/00 D ,  B05D1/40 A
Fターム (16件)：
4D075AC06 ,  4D075AC64 ,  4D075AC94 ,  4D075BB65Z ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042BA07 ,  4F042BA12 ,  4F042DH09 ,  4F042EB18 ,  4F042EB29 ,  5F146JA01 ,  5F146JA05
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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