特許
J-GLOBAL ID：201403044998478378

パターン形成方法及びパターン反転膜材料

発明者：
畠山 潤

畠山 潤 について

, 
荻原 勤

荻原 勤 について

, 
美谷島 祐介

美谷島 祐介 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (5件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史 ,  正木 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-028612
公開番号（公開出願番号）：特開2014-157299
出願日： 2013年02月18日
公開日（公表日）： 2014年08月28日
要約：
【解決手段】被加工基板上に、酸によって有機溶剤現像液への溶解速度が低下する樹脂、高エネルギー線の露光により酸を発生する光酸発生剤及び有機溶剤を含有する化学増幅型レジスト材料を塗布し、プリベークし、該レジスト膜に高エネルギー線をパターン照射し、露光後加熱(PEB)し、有機溶剤で現像してネガ型パターンを得、珪素、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウムから選ばれる元素を含有する溶液を塗布し、プリベーク、ドライエッチングによってネガパターンをポジパターンに変換する画像反転を行うパターン形成方法。【効果】パターンの倒れなく、高アスペクトなドットパターンなどのポジパターンを得ることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被加工基板上に、酸によって有機溶剤現像液への溶解速度が低下する樹脂、高エネルギー線の露光により酸を発生する光酸発生剤及び有機溶剤を含有する化学増幅型レジスト材料を塗布し、プリベークにより溶剤を除去し、該レジスト膜に高エネルギー線をパターン照射し、露光後加熱(PEB)し、有機溶剤で現像してネガ型パターンを得、珪素、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウムから選ばれる元素を含有する溶液を塗布し、プリベーク、ドライエッチングによってネガパターンをポジパターンに変換する画像反転を行うことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (5件)：
G03F 7/40 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10
FI (5件)：
G03F7/40 511 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/10
Fターム (130件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA05 ,  2H096GA03 ,  2H096HA05 ,  2H096HA23 ,  2H125AF17P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AH01 ,  2H125AH05 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH19 ,  2H125AH20 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ35X ,  2H125AJ42Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ69Y ,  2H125AJ84X ,  2H125AJ84Y ,  2H125AJ92Y ,  2H125AM22P ,  2H125AM94P ,  2H125AM95P ,  2H125AM99P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN88P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  2H125FA23 ,  2H196AA25 ,  2H196BA06 ,  2H196EA05 ,  2H196GA03 ,  2H196HA23 ,  2H196HA34 ,  2H196HA35 ,  4J030CA02 ,  4J030CB03 ,  4J030CB18 ,  4J030CC10 ,  4J030CC15 ,  4J030CC16 ,  4J030CC21 ,  4J030CD11 ,  4J030CG03 ,  4J030CG20 ,  4J100AB07R ,  4J100AK32R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM02R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA05R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA56R ,  4J100BB12R ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC12P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC58P ,  4J100BC58Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38 ,  4J246AA03 ,  4J246AB13 ,  4J246BA04X ,  4J246BA040 ,  4J246BA14X ,  4J246BA140 ,  4J246BA17X ,  4J246BA170 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246BB05X ,  4J246BB050 ,  4J246BB14X ,  4J246BB45X ,  4J246CA01X ,  4J246CA010 ,  4J246CA24X ,  4J246CA240 ,  4J246CA40X ,  4J246CA400 ,  4J246CA53X ,  4J246CA530 ,  4J246CA63X ,  4J246CA630 ,  4J246CA66X ,  4J246CA660 ,  4J246CA68X ,  4J246CA680 ,  4J246CA69X ,  4J246CA690 ,  4J246FA641 ,  4J246HA15
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (1件)

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