特許
J-GLOBAL ID：201403046722505331

二重反射型X線ミラー及びそれを用いた斜入射X線結像光学装置

発明者：
松山 智至

松山 智至 について

, 
山内 和人

山内 和人 について

, 
岡田 浩巳

岡田 浩巳 について


出願人/特許権者：
国立大学法人大阪大学

国立大学法人大阪大学 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-143620
公開番号（公開出願番号）：特開2014-006457
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2014年01月16日
要約：
【課題】 keV級のX線に対して回折限界を実現できる精度で作製できるAKBミラーと、色収差やコマ収差がないWolterミラーの特徴を兼ね備えた二重反射型X線ミラー及びそれを用いた斜入射X線結像光学装置を提供する。【解決手段】 色収差やコマ収差なしで200nm以下の分解能を有する斜入射X線結像光学系に用いる一次元一体型のX線ミラーであって、同一基板上にX線反射面となる楕円形状ミラー又は放物線形状ミラーの何れか一方からなる第1ミラー部5と双曲線形状ミラーからなる第2ミラー部6が、幾何学的な焦点が一致するように光軸方向に沿って直列に配置され、反射面の形状精度が5nm以下且つ表面粗さが0.5nmRMS以下の精度で作製された。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
色収差やコマ収差なしで200nm以下の分解能を有する斜入射X線結像光学系に用いる一次元一体型のX線ミラーであって、同一基板上にX線反射面となる楕円形状ミラー又は放物線形状ミラーの何れか一方からなる第1ミラー部と双曲線形状ミラーからなる第2ミラー部が、幾何学的な焦点が一致するように光軸方向に沿って直列に配置されるとともに、反射面の形状精度が5nm以下且つ表面粗さが0.5nmRMS以下の精度で作製され、X線が第1ミラー部と第2ミラー部とで連続的に二重反射することを特徴とする二重反射型X線ミラー。
IPC (2件)：
G02B 17/08 ,  G02B 5/08
FI (2件)：
G02B17/08 Z ,  G02B5/08 B
Fターム (10件)：
2H042DB02 ,  2H042DD06 ,  2H042DD07 ,  2H042DE00 ,  2H087KA09 ,  2H087NA05 ,  2H087RA04 ,  2H087TA00 ,  2H087TA04 ,  2H087TA06
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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